洗滌晶體的詳細操作方法?

洗滌晶體的操作方法如下：

1. 準備好飽和NaClO溶液和純水。

(資料圖)

2. 將待洗滌的晶體放入干燥的容器中。

3. 用吸水紙或抹布輕輕擦拭晶體表面，去除表面可能存在的灰塵、污漬等雜質。

4. 將飽和NaClO溶液倒入容器中，直至覆蓋晶體表面。

5. 然后將晶體浸泡在NaClO溶液中，靜置30分鐘至1小時左右。

6. 這時將NaClO溶液倒掉，用純水將晶體沖洗干凈，反復沖洗3-4次。

7. 最后用吸水紙或抹布將晶體表面擦干，然后將晶體放在通風處晾干即可。

需要注意的是，在洗滌晶體過程中要避免振動和碰撞，以免晶體破碎或出現劃痕。同時，洗滌晶體的容器要保持清潔，以免對晶體產生污染。

洗滌晶體的方法及要求是什么?

洗滌晶體用的溶劑會選擇溶解雜質不溶解晶體的溶劑為上佳，如果沒有，選用溶解雜質容易，溶解晶體難的溶劑。常用溶劑有蒸餾水和乙醇。

洗滌時用的溶劑是很少的，即使有溶解也是很少量的，你可以去搜索下晶體溶解的操作視頻看下。

晶體洗滌目的就是純化晶體使晶體純度高洗滌時不可避免會損失的。

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